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膜层沉积设备.pdfVIP

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    该实用新型涉及一种膜层沉积设备，包括：腔室；晶圆放置位，设置于腔室内；泵口，设置于腔室内，位于晶圆放置位旁，连通至泵，用于抽取腔室内的气体；泵罩，罩设于泵口，且泵罩顶面密封，侧面设置有通孔，泵通过通孔抽取腔室内的气体。由于在腔室内的泵口处罩设了一个泵罩，在通过泵对腔室内的气体进行抽取时，气流要经过泵罩侧边设置的通孔进入泵口，因此被泵罩所缓冲，不会被泵直接大流量的一次性所抽取，气流更加平缓均匀，因此在这样的腔室内沉积的晶圆表面的膜层，不会由于泵的过猛的抽气作用而使得沉积气体向晶圆边缘分布，不会出现

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210215541 U (45)授权公告日 2020.03.31 (21)申请号 20192

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