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    本实用新型公开了一种抛光设备，所述抛光设备包括桌体以及沿所述桌体长度方向依次设置的上料仓、抛光仓、成品仓；其中：所述桌体上设置有直线驱动模组与配合模组，所述直线驱动模组与所述配合模组平行，所述上料仓、抛光仓、成品仓均位于所述直线驱动模组与配合模组之间，所述直线驱动模组上设置有两组移料组件，所述移料组件能够沿所述直线驱动模组长度方向进行运动，一移料组件在上料仓与抛光仓之间进行运动，另一移料组件在抛光仓与成品仓之间进行运动；所述抛光仓内装有磨料悬浮液，所述抛光仓四周设置有超声波发生器。本实用新型无需

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 210209689 U (45)授权公告日 2020.03.31 (21)申请号 20192

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