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一种行星式多坩埚PVT法晶体沉积反应炉，涉及单晶体反应设备技术领域，具体包括反应平台：反应平台上加工有一组安装凹槽，安装凹槽底部设置有安装轴承，每个安装轴承内分别与一个从动转轴，从动转轴上方设置有一组反应坩埚，所有从动转轴下方均与一组旋转驱动装置配合连接，反应平台上还设置有一组绝热保护罩，绝热保护罩将所有反应坩埚包覆，绝热保护罩外端缠绕有感应线圈，感应线圈通过导线和控制开关与外接电源电连接；本实用新型多个坩埚由一组旋转驱动装置统一驱动旋转，在反应的同时，旋转坩埚，保证坩埚的内的晶体沉积效率增加，
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210194036 U
(45)授权公告日
2020.03.27
(21)申请号 20192
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