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本实用新型公开了一种能谱可调的本地二次荧光辐射装置,包括电子发射器、靶材和磁场方向可调的磁场发生机构;所述电子发射器用于发射电子束击打靶材;所述磁场发生机构设置在电子束的发射路径上,用于影响电子束在靶材上的焦点位置。本实用新型通过磁场发生机构的磁场变换以改变靶材上焦点的位置,能够简洁有效的进行能谱的调节,得到多种能谱的变化,一次操作可以实现多种能量的多次曝光成像,便于后续的进行多种复杂的图像处理。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210155055 U
(45)授权公告日
2020.03.17
(21)申请号 20192
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