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本实用新型提供了一种坩埚,包括坩埚本体和依次设置在所述坩埚本体底座内表面的碳基板和第一氮化硅层,所述碳基板为碳/碳复合板或碳/碳化硅复合板。其中,碳基板可以避免晶体硅铸锭过程中硅料与坩埚本体底座的直接接触,降低杂质污染,并且碳/碳复合板或碳/碳化硅复合板具有高纯度、高密度、耐高温以及不与硅反应的性质,有利于降低尾部红区,提高硅锭良率;同时,坩埚本体底座中无需进行喷涂氮化硅,节省氮化硅的用量,并且碳基板可以重复利用,降低生产成本。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210134182 U
(45)授权公告日
2020.03.10
(21)申请号 20192
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