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一种双开门真空镀膜设备,解决现有技术存在的工件取放灵活性差,镀膜效率低,靶材直径小,弧光不够细腻,膜层均匀性差,涂层与基体的结合强度和韧性低,维护不方便的问题。包括内部设置有工件旋转架的长方体状真空室,其特征在于:真空室两侧开口处分别设置有真空密封门Ⅰ和真空密封门Ⅱ,真空密封门Ⅰ和真空密封门Ⅱ的两个弧形内侧壁上,一共设置有三个电弧蒸发源组,每个电弧蒸发源组均由四个电弧蒸发源和四个引弧装置构成,相邻的电弧蒸发源之间设置有加热装置;真空室前部设置有离化源和阳极,真空室后部设置有抽气口。其设计合理,结
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210085564 U
(45)授权公告日
2020.02.18
(21)申请号 20192
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