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本实用新型公开了一种适合Micro‑Tec印刷的MWT太阳能电池掩膜，属于硅太阳能电池工艺技术领域，能够满足Micro‑Tec印刷机的定位要求。本实用新型将图1传统掩膜圈尺寸一致的掩膜圈设计为四个顶点掩膜圈和其余区域掩膜圈尺寸不一致的图形，四个顶点掩膜圈作为定位点，维持掩膜圈大于MWT电池的负极点以满足Micro‑Tec印刷机的定位要求，其余区域掩膜圈尺寸降低，小于MWT电池的负极点，达到降低了掩膜浆料的用量，降低了刻蚀工序去除掩膜浆料所需的化学品用量，节约了整个制程成本。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 209971825 U
(45)授权公告日
2020.01.21
(21)申请号 20182
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