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本实用新型公开了一种半膏体密封装置,包括真空室底座、真空室盖、真空室转臂、真空室转轴和半膏体密封机构,所述真空室底座顶部通过真空室转臂安装有真空室盖,在真空室底座前端面设有真空室,所述真空室通过两根真空室转轴安装在真空室底座上,所述真空室转轴的底部通过半膏体密封机构安装在真空室底座上。由于采用上述技术方案,本实用新型的有益效果为:本实用新型采用半膏体状润滑剂对真空室转轴与真空室之间在转动过程中产生的缝隙及时密封,不会产生漏气现象,由于半膏体状润滑剂为流体,因此可以实现动密封,密封效果更好,而且消
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 209925616 U
(45)授权公告日
2020.01.10
(21)申请号 20192
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