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本实用新型公开了一种带材连续式真空等离子体镀膜系统，包括真空镀膜室、抽真空系统、收放卷装置和驱动装置；收放卷装置包括放卷室和收卷室；抽真空系统通过真空连接通道分别与放卷室和收卷室连通；真空镀膜室上分布有若干阴极靶和进气管；放卷室和收卷室内部分别设置有放卷涨缩头和收卷涨缩头，放卷室和收卷室内部侧壁上分别设有加热装置，带材在真空镀膜室内通过阴极靶向带材上溅射金属离子，气体通过进气管流入真空镀膜室后与金属离子发生作用沉积在带材表面；本实用新型提供的真空等离子体镀膜系统使带材表面膜层沉积效率高、沉积厚度
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 209923423 U
(45)授权公告日
2020.01.10
(21)申请号 20192
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