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本发明提供的均压负载装置和回火炉,涉及工艺处理技术领域。该均压负载装置包括炉本体和外框架,炉本体置于外框架内。外框架包括横梁、底座、支撑柱和负载平台。支撑柱的一端与底座固定连接,支撑柱的另一端与横梁固定连接。负载平台与横梁固定连接。炉本体上设有定位柱和连接柱。定位柱的一端与炉本体连接,定位柱的另一端与支撑柱连接,以固定支撑柱的位置。连接柱的一端与横梁连接,连接柱的另一端与炉本体连接。该均压负载装置在进行回火处理工件表面形成均匀组织的同时,能将高压负载合理的分布在独立的外框架上,大大降低了炉体本身
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 108148980 A
(43)申请公布日
2018.06.12
(21)申请号 20181
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