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本实用新型公开了一种用于光栅刻写的激光扩束准直装置，包括底座、Z轴升降系统和滑轨模块系统。本发明能够通过Z轴升降系统和滑轨模块系统实现对包括高斯光斑在内的激光光束整形的效果，用以得到可以用于刻写光栅的均匀光斑。本实用新型可以有效控制写栅所需激光的能量分布及形状大小，使得所刻写的光栅达到所需指标并不损伤包层，同时提高边模抑制比。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214311133 U
(45)授权公告日 2021.09.28
(21)申请号 202022885373.5
(22)申请日 2020.12.03
(73)专利权人 长
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