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本实用新型公开了一种激光束曝光机上下料装置可调节支架，包括支架凹槽座和滚动轴承，所述支架凹槽座后端设置有插槽，且插槽的内部插接有支架立板，所述支架凹槽座的内部设置有凹槽，且支架凹槽座的右侧设置有弹簧锁止按钮，所述滚动轴承的下方设置有竖板，且滚动轴承位于支架凹槽座的前端，所述凹槽的内部螺纹连接有螺钉，且螺钉的下方设置有棘轮，所述棘轮的下方设置有棘爪，且棘爪的前端设置有棘爪旋钮，所述棘轮的前后两端均设置有气动杆，且气动杆的下方铰接有底板。该激光束曝光机上下料装置可调节支架，与现有的普通支架相比，角度
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214306201 U
(45)授权公告日 2021.09.28
(21)申请号 202023111195.7 H01L 21/027 (2006.01)
(22)申请日
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