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本实用新型公开了一种地膜残留样本采集的辅助装置，包括至少一个限位框和一个测距仪，其中，限位框用于限制选取地块的长宽尺寸，测距仪用于在一边开挖、一边取土过程中测量已经开挖的土壤层的深度。本实用新型公开的提供一种地膜残留样本采集的辅助装置，通过对开挖地膜残留样本过程中选取地块的长宽尺寸和挖掘深度的控制，简化了操作，提高了地膜残留样本采集的效率，减少了对人工的依赖，系统上降低了不同正方体样方或正方体坑槽长宽深度的差异，提高了地膜残留样本采集的标准化水平，从而降低了地膜残留样本处理结果的系统误差。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214173823 U
(45)授权公告日 2021.09.10
(21)申请号 202120137229.5
(22)申请日 2021.01.19
(73)专利权人 北京市农林科学院
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