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本发明所公开的等离子体处理装置具备腔室、基板支承器、高频电源及偏置电源。高频电源为了生成等离子体而产生高频电力。偏置电源与基板支承器的偏置电极电连接,产生电偏置。搭载于基板支承器上的边缘环经由阻抗调节器接收电偏置的一部分,或接收其他电偏置。外圈相对于边缘环在径向上且在外侧延伸,接收高频电力的一部分或其他高频电力。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113851367 A
(43)申请公布日 2021.12.28
(21)申请号 202110664971.6
(22)申请日 2021.06.16
(30)优先权数据
2020-1105
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