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本公开涉及样本处理组件，所述样本处理组件包括(a)下板(10)、(b)与所述下板互补的上板(30)和(c)由它们形成的腔室。在一些实施方案中，所形成的腔室适于执行去掩蔽操作，例如抗原修复和/或靶标修复。在一些实施方案中，所述样本处理组件配置成在所有处理步骤期间使样本承载基底(15)保持水平。本公开还涉及包括一个或多个可独立操作的样本处理组件的系统。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113785184 A
(43)申请公布日 2021.12.10
(21)申请号 202080035604.3 E ·T ·格雷夫斯 T ·J ·凯勒
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