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本发明公开了一种含有Ni纳米插入层的保护性涂层及其制备方法。所述保护性涂层包括依次在基体表面沉积的Ti过渡层、TiN过渡层及交替沉积的TiAlSiN层和Ni层,每层TiAlSiN层和Ni层的厚度均为纳米级。制备方法为:通过溅射和反应溅射分别在基体表面获得Ti过渡层、TiN过渡层;然后交替使用TiAlSi靶和Ni靶,在TiN过渡层表面进行多靶磁控溅射,形成交替层叠设置的TiAlSiN层和Ni层。本发明得到了一种兼具高韧性和高硬度的涂层,能够提升被保护工件的耐冲击性能,拓宽了保护性涂层的研究范围。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113774327 A
(43)申请公布日 2021.12.10
(21)申请号 202111086116.8
(22)申请日 2021.09.16
(71)申请人 上海新弧源涂层技术有限公司
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