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本发明公开了一种平面显示用高纯铜旋转管靶的制备工艺。它包括下述步骤:(1)以阴极电解铜为原料;(2)将原料预热至110~150℃,并保温0.5~2h;(3)熔炼;(4)降温使熔体凝固以充分除气;(5)一次精炼;(6)降温使精炼铜熔体凝固再次除气;(7)二次精炼;(8)铸造;(9)连续挤压获得高纯铜旋转管靶初坯;(10)机加工,得到高纯铜旋转管靶成品。本发明提供的平面显示用高纯铜旋转管靶的制备工艺制备出的高纯铜旋转管靶除了能满足平面显示用高纯铜旋转管靶的要求外,还具有较小的表面粗糙度和更低的氧含量
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113774337 A
(43)申请公布日 2021.12.10
(21)申请号 202110956453.1
(22)申请日 2021.08.19
(71)申请人 虹华科技股份有限公司
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