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检查装置调整系统以及检查装置调整方法.pdfVIP

检查装置调整系统以及检查装置调整方法.pdf

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    本发明的课题在于，迅速确定检查对象即晶片的光学条件，特别在于，在获得客户晶片后，将光学条件设定迅速化。本发明所涉及的检查装置自动调整系统具有：输入解析条件的解析条件设定IF(102)；进行解析的解析执行部(103)；解析中所用的检查装置模型和模型DB(101)；蓄积解析结果的解析结果DB(104)；输入晶片图案、聚焦点、最优化指标和优先级的观察条件设定IF(105)；检索与所输入的晶片图案类似的晶片图案的晶片图案检索部(106)；从解析结果DB(104)提取类似晶片图案和在聚焦点中最优的光学条件

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113767459 A (43)申请公布日 2021.12.07 (21)申请号 201980096016.8 (51)Int.Cl.

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