衬底用抛光垫及抛光装置及其抛光工艺.pdfVIP

衬底用抛光垫及抛光装置及其抛光工艺.pdf

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一种衬底用抛光垫，其材质为高分子材料，邵氏硬度为70‑75，厚度为2‑3mm，采用所述抛光垫及其抛光装置对衬底进行抛光作业，可降低衬底表面损伤层深度，提高抛光对于平坦度的修复能力，进一步降低衬底抛光后的平坦度数值。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113696092 A (43)申请公布日 2021.11.26 (21)申请号 202111012634.5 (22)申请日 2021.08.31 (71)申请人福建晶安光电有限公司

知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来，知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作，经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。

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