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本发明提供了一种导电膜及其制备方法，该导电膜包括：基材；憎水模板阵列层，导电层和保护层；该导电膜的制备方法为：在基材一侧面制备憎水模板阵列层；在基材一侧面位于相邻憎水模板之间制备导电层；在憎水模板阵列层、导电层远离基材一侧面制备保护层。本发明的方法利用憎水模板阵列层阻隔之后导电液的涂布，使得导电液只停留在之前未被憎水模板阵列层覆盖的地方，从而形成导电线路，来代替传统的激光刻蚀工艺，由于憎水模板阵列层可很好的起到了防止导电层短路，避免出现触控失效；同时由于未使用激光刻蚀工艺，可以实现保护液的厚涂，
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113658746 B
(45)授权公告日 2022.06.24
(21)申请号 202110710555.5 审查员 蒋显辉
(22)申请日 2021.06.25
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