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本发明涉及一种链式PECVD镀膜工艺稳定性的检测方法,该检测方法包括如下步骤:采取相同镀膜工艺下不同时间点完成的镀膜硅片,烧结得半成品;分别对半成品进行PL和隐性开路电压测试,或PL和饱和电流密度测试,或PL和隐性开路电压、饱和电流密度测试;根据测试结果评估不同时间点所述链式PECVD镀膜工艺的稳定性;其中,不同时间点的镀膜硅片前端各工序工艺保持一致;不同时间点中至少一个时间点选自整个镀膜工艺周期的0‑3/5时间段内;各半成品进行PL、隐性开路电压、饱和电流密度测试的条件保持一致。该检测方法通过
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113539871 B
(45)授权公告日 2022.07.01
(21)申请号 202110714182.9 (51)Int.Cl.
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