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本发明提供了一种半导体器件的双钝化层结构的制备工艺，包括如下步骤：提供半导体基板，所述半导体基板包括基板以及设置在所述基板上的金属阵列；在所述半导体基板的金属阵列所在的表面制备第一钝化层；在所述第一钝化层背离所述半导体基板的一侧表面沉积聚合物，制备第二钝化层；对所述第二钝化层覆盖所述金属阵列的区域进行光刻处理，得到间隔设置的第二钝化层，所述间隔设置的第二钝化层设置在所述金属阵列之间；对所述第一钝化层覆盖所述金属阵列的区域进行刻蚀处理，得到间隔设置的双钝化层结构，所述间隔设置的双钝化层结构设置在所
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113451141 A
(43)申请公布日
2021.09.28
(21)申请号 20201
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