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本文描述了用于形成氧化硅膜的组合物和方法。在一个方面,所述膜由至少一种硅前体化合物沉积,其中所述至少一种硅前体化合物选自如本文定义的下式A和B:
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113403605 A
(43)申请公布日 2021.09.17
(21)申请号 202110662236.1 (51)Int.Cl.
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