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本申请公开了一种计算系统，以识别能够利用通过掩模布局数据描述的光刻掩模制造的集成电路的结构，并至少部分地基于掩模布局数据和所识别的结构的失效定义来生成用于所识别的结构的工艺窗口。计算系统利用用于所识别的结构的工艺窗口基于制造参数的分布来确定所识别的结构的失效率。计算系统根据掩模布局数据来确定所识别的结构的出现频率，并通过基于集成电路中所识别的结构的出现频率汇总所识别的结构的失效率来生成集成电路的管芯良率度量。集成电路产量的这些增加使得制造商能够每单位固定的晶片处理成本产出更多的单元。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113396418 A
(43)申请公布日 2021.09.14
(21)申请号 201980091423.X (74)专利代理机构 广州华进联合专利商标代理
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