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本发明公开了一种沉积装置和沉积方法。根据本发明实施例的沉积装置包括沉积腔;支撑架,位于所述沉积腔中;以及第二喷头,位于所述沉积腔中,且位于所述支撑架的第一侧,用于提供反应气体,其中,所述支撑架包括边框和与所述边框相连接的多个支撑部;所述多个支撑部分别连接在所述边框的不同位置处,且分别从所述边框的内表面朝向所述边框的中心突出;所述多个支撑部之间形成通过所述反应气体的气体通道。根据本发明实施例的沉积装置和沉积方法,能够同时在晶圆边缘和晶圆背面沉积薄膜,节约了资源。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113388826 A
(43)申请公布日 2021.09.14
(21)申请号 202110608312.0
(22)申请日 2021.06.01
(71)申请人 长江存储科技有限责任公司
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