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本发明提供了一种制绒后晶硅片的处理方法,包括将制绒后晶硅片放置在气氛炉内;对气氛炉内抽真空使气氛炉内压力小于第一压力;输入第一气体至气氛炉内,使气氛炉内压力大于第二压力,对制绒后晶硅片预处理;输入保护气体至气氛炉内,使气氛炉内压力大于第二压力,对制绒后晶硅片的表面生成气体保护膜;输入第二气体至气氛炉内,使气氛炉内压力升高至常压,将气氛炉内温度降至常温。其中,第一压力<第二压力。通过第一气体、保护气体、第二气体对制绒后晶硅片进行处理,在制绒后晶硅片表面附着一层气体保护膜进行保护,延长制绒后晶硅片保
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113363336 A
(43)申请公布日 2021.09.07
(21)申请号 202110006131.0
(22)申请日 2021.01.04
(71)申请人 宣城睿晖宣晟企业管理中心合伙企
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