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为了改变流向涂装面的水的方向以使其流向罩的中央侧，水偏转构件设置为当在执行自动水磨的状态下看时，朝向罩的中央侧延伸，同时朝向涂装面延伸。因此，被涂装面反弹的水不会散落在涂装面的大范围区域上，并且研磨粉尘也不会散落在涂装面的大范围区域上。因此，可消除对擦除残留在涂装面上的研磨粉尘的烦杂作业的需求，并可在涂装面上获得优质的光洁度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113352185 A
(43)申请公布日 2021.09.07
(21)申请号 202110037854.7
(22)申请日 2021.01.12
(30)优先权数据
2020-0379
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