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研磨装置、处理系统和研磨方法.pdfVIP

研磨装置、处理系统和研磨方法.pdf

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    本发明提供一种研磨装置、处理系统和研磨方法，该研磨装置包含：研磨台，该研磨台用于支承研磨垫；研磨头，该研磨头用于保持基板；以及研磨液供给装置，该研磨液供给装置用于向研磨垫与基板之间供给研磨液，研磨装置通过在研磨液的存在下使研磨垫与基板接触并相互旋转运动，从而进行基板的研磨，研磨液供给装置具有多个研磨液供给口，该多个研磨液供给口在相对于基板配置在研磨垫的旋转上游侧的状态下，在与研磨垫的旋转方向交叉的方向上排列，研磨液供给装置以从多个研磨液供给口供给的研磨液成为规定的流量分布的方式供给研磨液。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113352229 A (43)申请公布日 2021.09.07 (21)申请号 202110253439.5 (51)Int.Cl.

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