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利用自动产生缺陷特征检验半导体结构的方法及系统.pdfVIP

利用自动产生缺陷特征检验半导体结构的方法及系统.pdf

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    基于从候选缺陷的图像导出的一或多个自动产生属性的值而实现用于所关注缺陷DOI的经改进检测及分类的方法及系统。通过迭代地训练、简化及重新训练深度学习模型而确定自动产生属性。所述深度学习模型使候选缺陷的光学图像与所述缺陷的已知分类相关。在模型简化之后，识别所述简化模型的属性，所述属性使候选缺陷的所述光学图像与所述缺陷的所述已知分类强相关。随后采用所述简化模型来产生与具有未知分类的候选缺陷的图像相关联的所述经识别属性的值。另一方面，采用统计分类器以基于自动产生属性及人工识别属性对缺陷进行分类。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113302728 A (43)申请公布日 2021.08.24 (21)申请号 202080009734.X M ·普利哈尔　

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