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在一些实施例中，本公开涉及一种集成芯片、存储器器件及其形成方法。存储器器件包括设置在衬底上方的下部层间介电(ILD)层内的下部互连上方的底部电极。数据存储结构位于底部电极上方。第一顶部电极层设置在数据存储结构上方，第二顶部电极层位于第一顶部电极层上。与第一顶部电极层相比，第二顶部电极层不易被氧化。顶部电极通孔位于第二顶部电极层上方并且电耦合到第二顶部电极层。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113285018 A
(43)申请公布日 2021.08.20
(21)申请号 202011629122.9 G11C 13/00 (2006.01)
(22)申请日 2
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