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本发明公开了一种镀膜挡板，安装在镀膜腔体内的转架上，所述转架上沿同一圆周设置有多个镀膜杆位，每个镀膜杆位上放置有一个镀膜杆；每个镀膜杆位上设置有一个所述镀膜挡板，所述镀膜挡板呈一端开口的长条形罩体形状，每个镀膜挡板罩在相应的镀膜杆的外部，所述镀膜挡板的开口端朝向所述转架的径向外侧延伸，且随着转架的旋转，每个镀膜挡板绕经靶材时该镀膜挡板的开口端正对靶面。本发明的镀膜挡板，可以有效控制靶材粒子入射沉积的方向，有效控制膜厚，提高膜层均匀性，提高沉积膜层的质量。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113265630 A
(43)申请公布日 2021.08.17
(21)申请号 202110740570.4
(22)申请日 2021.06.30
(71)申请人 纳峰真空镀膜（上海）有限公司
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