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本发明涉及有机膜形成材料、以及图案形成方法及聚合物。本发明的课题是为了提供不损及树脂本身的碳含量且可展现高蚀刻耐性、优良的扭曲耐性的有机膜形成材料，以及提供使用了该有机膜形成材料的图案形成方法、及适于如此的有机膜形成材料的聚合物。该课题的解决手段为一种有机膜形成材料，其特征为含有：(A)具有下述通式(1)表示的重复单元的聚合物，及(B)有机溶剂；该通式(1)中，AR1、AR2、AR3及AR4为苯环或萘环，W1为具有至少1个以上的芳香环的碳数6～70的4价有机基团，W2为碳数1～50的2价有机基团
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114690555 A
(43)申请公布日 2022.07.01
(21)申请号 202111600298.6
(22)申请日 2021.12.24
(30)优先权数据
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