CIS器件的隔离结构制作方法.pdfVIP

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本申请涉及半导体制造技术领域,具体涉及一种CIS(CMOSImageSensor,CMOS图像传感器)器件的隔离结构制作方法。CIS器件的隔离结构制作方法包括以下步骤:提供所述CIS器件的基底层,所述基底层包括相对的上表面和下表面;在所述基底层的上表面上制作形成硬质掩模层;通过光刻刻蚀工艺,使得所述硬质掩模层定义出所述隔离结构的图案;基于带有所述图案的硬质掩模层,进行多次刻蚀,使得按照刻蚀先后顺序,各次刻蚀过程中刻蚀速率,先逐渐递增后逐渐递减,以刻蚀去除未覆盖有所述硬质掩模层的基底层,形成由

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113270434 A (43)申请公布日 2021.08.17 (21)申请号 202110270104.4 (22)申请日 2021.03.12 (71)申请人 华虹半导体(无锡)有限公司

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