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具有下述工序:(a)将表面露出有导电性的金属元素含有膜的衬底在第1温度下向处理室内搬入的工序;(b)在处理室内,在使衬底升温至比第1温度高的第2温度的同时向衬底供给还原气体的工序;(c)在处理室内,通过在第2温度下向衬底供给不含氧化气体的第1处理气体,从而在金属元素含有膜上形成包含氮及碳中的至少任一者和硅而不含氧的第1膜的工序;和(d)在处理室内,通过在比第1温度高的第3温度下向衬底供给包含氧化气体的第2处理气体,从而在第1膜上以比第1膜厚的方式形成包含硅、氧、碳及氮的第2膜的工序。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113243042 A
(43)申请公布日 2021.08.10
(21)申请号 201980082049.7 (51)Int.Cl.
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