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本发明公开了一种晶圆的清洗方法，包括如下步骤：提供一边缘具有表面阻碍物的晶圆，并使晶圆沿轴心旋转，在晶圆上方设置主喷淋口，以对晶圆中间区域喷淋清洗药液进行清洗；在晶圆上方提供副喷淋口，对晶圆表面喷淋清洗药液进行清洗，副喷淋口到晶圆轴心线的距离不低于表面阻碍物到晶圆轴心线的距离，且副喷淋口的喷淋区域至少覆盖表面阻碍物旋转形成的圆环区域。本发明的清洗方法能够有效消除因激光打印等阻碍物引起的药印缺陷等问题，且清洗效率高、清洗效果好且稳定。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113130299 A
(43)申请公布日 2021.07.16
(21)申请号 202110405013.7
(22)申请日 2021.04.15
(71)申请人 广东先导微电子科技有限公司
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