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本发明涉及一种弱能量收集用锗锡肖特基二极管的制备方法,包括:选取衬底;在衬底的上表面形成低温Ge缓冲层;在低温Ge缓冲层的上表面形成高温Ge缓冲层;在高温Ge缓冲层的上表面形成n+DR‑Ge1‑xSnx层;在n+DR‑Ge1‑xSnx层的上表面形成n‑DR‑Ge1‑xSnx层;在n‑DR‑Ge1‑xSnx层的上表面形成Si帽层;刻蚀至n+DR‑Ge1‑xSnx层的上表面形成台阶结构;在Si帽层的上表面形成第一电极;在n+DR‑Ge1‑xSnx层的上表面形成第二电极。本发明通过引入Si帽层和合金化
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112687539 A
(43)申请公布日 2021.04.20
(21)申请号 202011468456.2
(22)申请日 2020.12.14
(71)申请人 西安科
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