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本发明的目的是一种用于流体的磁处理的装置(50)，所述装置包括：大致圆柱形的壳体(6)，所述壳体具有底壁(61)、顶壁(62)和侧壁(60)，所述侧壁围绕所述壳体的所述底壁(61)和所述顶壁(62)的圆周延伸；至少一个入口开口(2、3)和至少一个出口开口(4)，所述至少一个入口开口和所述至少一个出口开口形成在所述壳体(6)的壁中；至少一个磁体(8)，所述磁体连接到所述壳体(6)，其中，所述磁体的磁场侵入所述壳体中；其中，一个或多个入口管(30)连接到所述一个或多个入口开口(2、3)，其中，所述入
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112689615 A
(43)申请公布日 2021.04.20
(21)申请号 201980046598.9 (74)专利代理机构 北京中博世达专利商标代理
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