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本发明公开一种精密铸造件抛光装置，包括主设备平台，所述主设备平台上设有抛光机构，抛光机构包括抛光机底板，抛光机底板上设有阵列分布的抛光机架，抛光机架上设有多个丝杆机构，主设备平台设有抛光夹具盘，抛光夹具盘一侧设有上料机构，抛光夹具盘另一侧设有下料机构，上料机构一侧设有进料架，抛光机架上设有第一丝杆平台，第一丝杆平台上设有阵列分布的第一滑轨，第一滑轨之间设有阵列分布的第一轴承座，第一轴承座内共同设有第一丝杆，第一丝杆上设有第一丝杆块。本发明上下料方便，提高了抛光效率，同时降低了作业人员的劳动强度，
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112497028 A
(43)申请公布日 2021.03.16
(21)申请号 202011396363.3 B24B 47/20 (2006.01)
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