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本发明公开一种多源的电子束蒸发镀膜装置，包括真空腔、布置于真空腔内的转轴、安装于转轴上的转盘、安装于转盘底部的基片，以及布置于转盘下方的蒸发平面，还包括垂直立板、修正挡板；所述垂直立板竖直布置于转盘的中心下方，并将蒸发平面等分为两份；每一等分的蒸发平面内还均布置有若干蒸发机构，且若干蒸发机构内的蒸发材料各不相同；所述修正挡板布置于基片与若干蒸发机构之间。通过该装置可实现多种蒸发材料对同一基片同时进行镀膜，且可充分混合均匀，同时，还提供了一种电子束蒸发镀膜膜厚均匀性修正方法，可使得基片上任意一点对
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112501562 B
(45)授权公告日 2022.02.11
(21)申请号 202011375545.2 C23C 14/54 (2006.01)
(22)申请日
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