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本发明公开一种无掩膜激光纳米三维直写设备及其使用方法，包括备料箱体，所述备料箱体的右端表面设置有纳米框架机构，所述纳米框架机构的上部设置有外框架壳体，所述外框架壳体的前端表面靠近中间位置设置有前门板，所述外框架壳体的右端表面靠近中间位置设置有透明玻璃，所述外框架壳体的内侧底端表面中间位置设置有打印台；本发明能够避免占用打印台有效空间的同时，为激光直写头在打印台上直写打印提供方便，对纳米直写头的最大延展范围进行限定，避免样品的整体偏差，提高激光直写头的直写打印精度，实现对纳米直写头的端部微调节，减
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112433448 A
(43)申请公布日 2021.03.02
(21)申请号 202011267535.7
(22)申请日 2020.11.13
(71)申请人 合肥酷显智能科技有限公司
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