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提供一种等离子体蚀刻方法,其在半导体制造工艺中,可以对掩模材料选择性地加工由SiO2、SiN之类的单独的材料、或SiO2、SiN的复合材料形成的膜,而且加工时得到良好的垂直加工形状。将包含通式(1):Rf1‑S‑Rf2(1)(式中,Rf1为CxHyFz所示的一价的有机基团,Rf2为CaHbFc所示的一价的有机基团)式(1)所示的具有硫醚骨架的气体化合物的混合气体、或将单独进行等离子体化,对由SiO2、SiN之类的单独的材料、或复合材料形成的膜进行蚀刻,从而与使用通常的氢氟碳气体的情况相比,氟原子
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112313780 A
(43)申请公布日 2021.02.02
(21)申请号 201980041905.4 (74)专利代理机构 北京林达刘知识产权代理事
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