用于基板处理的支撑支架设备和方法.pdfVIP

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2023-05-10 发布于北京
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用于基板处理的支撑支架设备和方法.pdf

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本公开内容的方面涉及用于基板处理的支撑支架设备和方法，诸如等离子体处理腔室。在一个实施方式中，一种基板处理腔室包括腔室主体。所述腔室主体包括一个或多个侧壁，并且所述一个或多个侧壁中的每一者包括内表面。所述基板处理腔室还包括：基座，所述基座具有支撑表面；处理空间，所述处理空间在所述基座上方；以及下部空间，所述下部空间在所述基座下方。所述基板处理腔室还包括支架，所述支架安装到所述一个或多个侧壁中的侧壁的所述内表面。所述支架包括第一端、第二端和在所述第一端与所述第二端之间的纵向长度。所述支架还包括在所

(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114514337 A (43)申请公布日 2022.05.17 (21)申请号 201980100764.9 (51)Int.Cl.