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本发明属于光刻缺陷检测相关技术领域,其公开了一种光刻缺陷衍射光强差分检测方法,包括以下步骤:(1)构造入射照明矩阵P(m,n,U0),扫描入射待测含缺陷光刻样品O(x,y),获得待测含缺陷样品的近场电场分布U(ξ,η);(2)获得待测含缺陷光刻样品的远场衍射光强分布I(x,y)矩阵;(3)求解远场衍射光强差分ΔI(x,y);(4)对得到的远场衍射光强差分ΔI(x,y)进行灵敏度响应分析,并基于得到的灵敏度响应分析结果进行缺陷位置求解;(5)重复步骤(1)‑步骤(4)直至整个待测光刻样品被完整扫描
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 114509921 A
(43)申请公布日 2022.05.17
(21)申请号 202210039385.7
(22)申请日 2022.01.13
(71)申请人 华中科技大学
地址 430074
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