一种R-T-B永磁体生产工艺.pdfVIP

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2023-05-06 发布于四川
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一种R-T-B永磁体生产工艺.pdf

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一种R‑T‑B永磁体生产工艺，属于永磁体重稀土溅射工艺技术领域。现有技术中的重稀土镀膜并扩散于R‑T‑B永磁体毛坯的方法生产效率低且无法实现非磁化方向上进行扩散。本发明对于被溅射面与磁化方向平行时，采用重稀土溅射镀膜厚度为磁体厚度的0.12%~2.4%，配合两段保温方法，实现大尺寸R‑T‑B永磁体毛坯的溅射镀膜，显著提高了生产效率，有效减少因单片毛坯尺寸小、摆放数量多导致的摆放整齐难度大，或者导致的磕边、崩坏或碎裂现象，显著提高了产品合格率。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114334425 A (43)申请公布日 2022.04.12 (21)申请号 202210184886.4 (22)申请日 2022.02.28 (71)申请人安泰爱科科技有限公司