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本发明提供一种基于制程区域的晶粒外观检测方法,包括如下步骤:获取晶圆上的标准晶粒,并对所述标准晶粒进行基于制程的区域划片;通过选取所述标准晶粒的特征点来对所述晶圆上的待测晶粒进行对位;基于所述标准晶粒的不同制程区域提取所述待测晶粒的对应制程区域;对所述待测晶粒的不同制程区域采用对应制程的检测方法进行缺陷检测。本发明通过对待测晶粒进行基于制程的区域提取,并对不同制程的区域采用不同的检测方法进行缺陷检测,提高了检测的精度及效率;同时,采用同一标准晶粒作为所有待测晶粒的对比标准,提高了检测的鲁棒性。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113889422 A
(43)申请公布日 2022.01.04
(21)申请号 202111141388.3
(22)申请日 2021.09.28
(71)申请人 武汉精创电子技术有限公司
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