外延炉外延层厚度均匀性生长控制装置用调节结构.pdfVIP

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2023-04-20 发布于北京
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外延炉外延层厚度均匀性生长控制装置用调节结构.pdf

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本实用新型提出了外延炉外延层厚度均匀性生长控制装置用调节结构，设置在设备本体上，所述设备本体一侧设置有控制装置，该调节结构包括分别固定设置在设备本体左右两侧的立柱，所述立柱的前侧活动设置有控制装置，所述控制装置表面设置有固定组件，所述固定组件左右两侧的后端分别插入到左右两侧的立柱后侧且与立柱之间滑动配合，所述固定组件的表面与控制装置表面相抵且位于控制装置的上部，借此，本实用新型具有能实现控制装置在设备本体上上下滑动、方便调节控制装置高度的优点。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215887308 U (45)授权公告日 2022.02.22 (21)申请号 202121985006.0 (22)申请日 2021.08.23 (73)专利权人无锡赛默可科技有限公司