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本实用新型公开一种研磨机下研磨盘用静压回转支撑装置，其包括用于设置下研磨盘的旋转工件、设置于旋转工件下方的静压转台、设置在静压转台下用于承接静压油的回流盘、及穿过静压转台及回流盘与旋转工件连接的转轴，所述静压转台包括上工作面与下固定面，所述静压油通过注入静压转台上工作面与下固定面之间，上工作面浮起，从而实现转轴带动旋转工件的平稳转动，该装置利用静压油将静压转台上工作面抬起，避免了静压转台上工作面与下固定面之间的摩擦，从而确保了托盘与旋转部件之间的平稳转动，提高了硅片的成片质量，以及良品率，同时减
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213616032 U
(45)授权公告日 2021.07.06
(21)申请号 202021681486.7
(22)申请日 2020.08.12
(73)专利权人 青岛高测科技股份有限公司
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