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泓域咨询/三明关于成立机械设备公司可行性报告
三明关于成立机械设备公司
可行性报告
xx集团有限公司
报告说明
在先进的集成电路制造技术中用于刻蚀关键层最主要的刻蚀方法是单片处理的高密度等离子体刻蚀技术。根据产生等离子体方法的不同,等离子体刻蚀主要分为电容性等离子体刻蚀(CCP)、电感性等离子体刻蚀(ICP)、电子回旋加速震荡(ECR)和双等离子体源。
xx集团有限公司主要由xxx(集团)有限公司和xx投资管理公司共同出资成立。其中:xxx(集团)有限公司出资70.00万元,占xx集团有限公司10%股份;xx投资管理公司出资630万元,占xx集团有限公司90%股份。
根据谨慎财务估
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