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泓域咨询/刻蚀设备项目实施方案
刻蚀设备项目
实施方案
xxx集团有限公司
目录 TOC \o 1-3 \h \z \u
第一章 市场预测 8
一、 等离子体刻蚀面临的问题 8
二、 原子层刻蚀为未来技术发展方向 8
三、 干法刻蚀是芯片制造的主流技术 11
第二章 项目投资背景分析 14
一、 反应离子刻蚀 14
二、 高密度等离子体刻蚀 14
三、 打造具有国际竞争力的现代产业体系 15
四、 深化实施全面融入长三角一体化发展首位战略 19
第三章 项目概述 23
一、 项目名称及项目单位 23
二、 项目
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