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泓域咨询/临沂关于成立机械设备公司可行性报告
临沂关于成立机械设备公司
可行性报告
xx(集团)有限公司
报告说明
以硅片上的原子层刻蚀为例,首先,氯气被导入刻蚀腔,氯气分子吸附于硅材料的表面,形成一个氯化层。这一步改性步骤具有自限制性:表面一旦饱和,反应立即停止。紧接着清楚刻蚀腔中过量的氯气,并引入氩离子。使这些离子轰击硅片,物理性去除硅-氯反应后产生的氯化层,进而留下下层未经改性的硅表面。这种去除过程仍然依靠自限制性,在氯化层被全部去除后,过程中止。以上两个步骤完成后,一层极薄的材料就能被精准的从硅片上去除。半导体设备市场快速发展,刻蚀设备价值量可观
xx(集团)有限公司主要由
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